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本發(fā)明要解決技術(shù)問題是現(xiàn)有溴化鉀晶片拋光方法無法實(shí)現(xiàn)有效拋光,影響紅外波段透過率,且會損傷晶片表面,為此提供一種溴化鉀晶片拋光方法。 本...
我有4片2英寸Fe:LN和1片4英寸LN晶片,厚度是500um,想做一下雙面拋光,拋光后粗糙度要<1nm,不知道哪里能做?
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過程中,不光滑部分能用砂紙打磨,光刻過程中,如何打磨芯片里集成電路呢? 當(dāng)然沒有這么細(xì)砂紙,這個(gè)過程使用是化學(xué)機(jī)械拋光液。 ...
湖北鼎龍控股股份有限公司(以下簡稱“鼎龍股份”)投資近4億元,經(jīng)過6年艱苦研發(fā),建成目前國內(nèi)或、國際先進(jìn)集成電路芯片CMP拋光墊產(chǎn)研機(jī)地,并承擔(dān)...
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